Anua - Birch Moisture Mask - hydratační plátýnková maska na obličej. Více informací
5ks skladem, Můžete mít za 28 dny od 14:54. Více informací
Doprava ZDARMA při nákupu nad 1 499 Kč
Obsahuje šťávu z břízy velkolisté japonské, která vyhlazuje a změkčuje, beta-glukan, který podporuje funkci hydrolipidové bariéry pokožky a zmírňuje podráždění, kyselinu hyaluronovou, která váže vodu v pokožce a hydratuje a trehalózu, která bojuje proti volným radikálům a zklidňuje podráždění. Maska je vhodná pro všechny typy pleti.
Přípravek obsahuje:
- Šťávu z břízy velkolisté japonské - změkčuje, vyhlazuje a zanechává pokožku hebkou na dotek
- Beta-glukan - zlepšuje elasticitu pleti a zmírňuje podráždění
- Kyselinu hyaluronovou - váže vodu v pokožce, zajišťuje dostatečnou úroveň hydratace a vyhlazuje
- Trehalózu - disacharid z mořských řas, antioxidant; zadržuje vodu v pokožce
Hlavní vlastnosti:
- Hydratuje
- Vyživuje
Kosmetoložky doporučují přípravek pro tyto typy pleti a kosmetické nedokonalosti
Všechny typy pleti.
Použití
Masku naneste na očištěný obličej, nechte 15-20 minut působit a poté odstraňte. Zbylou esenci vklepejte do pokožky.
Složení
Aqua, Dipropylene Glycol, Butylene Glycol, Glycerin, Diglycerin, Betula Platyphylla Japonica Juice, Beta-Glucan, Sodium Hyaluronate, Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate, Sodium Acetylated Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Hydrolyzed Sodium Hyaluronate, Potassium Hyaluronate, Dipotassium Glycyrrhizate , Trehalose, Allantoin, Butyrospermum Parkii (Shea) Butter, Phytosphingosine, Ceramide NP, Glucose, Xylitol, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Arginine, Caffeine, Biosaccharide Gum-1, Carbomer, Hydroxyacetophenone, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, 1,2-Hexanediol, Sodium Phytate.
Zkuste také ostatní výrobky značky Anua, které naleznete v kategoriích Péče o pleť, Kosmetika a Pleťové masky. Pokud si nejste jistí výběrem tohoto produktu, zkuste se ještě podívat do kategorie Korejské pleťové masky.